日前，由中国知识产权研究会、高卢麟基金会联合主办的集成电路布图设计专有权保护高层研讨会日前在京举行。研究会秘书长张云才出席会议并致辞。知识产权领域法律专家，半导体行业协会有关专家，国家知识产权局条法司、复审委员会、初审及流程管理部等有关部门研究人员、北京国威知识产权司法鉴定中心有关专家等50余人参加了会议。会议由研究会副秘书长马秀山主持。

    张云才在致辞中指出，集成电路布图设计产业作为智力密集型产业，其知识产权保护对于促进创新、推动产业发展壮大具有重要作用。但由于对该领域研究的稀缺性，围绕它举办的学术活动非常少。本次研讨会是首次围绕集成电路布图设计专有权保护领域并聚集了该领域大部分权威专家的一次较大规模的会议。张云才强调，要通过此次研讨会，共同分析探讨集成电路专有权保护问题，在立法执法和解决实际问题方面得到有益启示，为保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展提供帮助。

    研讨会上，高卢麟，中国半导体行业协会执行副理事长、秘书长徐小田分别对集成电路产业发展与布图设计专有权保护方面进行了详细介绍和解读。中国科学院大学法律系主任李顺德，国家知识产权局初审及流程管理部保密审查处处长李莉，清华大学法学院知识产权法研究中心主任崔国斌，国家知识产权局复审委电学申诉一处处长沈丽，中国人民大学知识产权学院副院长郭禾，深圳大学法学院知识产权学院副院长、深圳市中级人民法院知识产权庭副庭长祝建军分别围绕集成电路布图设计登记的意义及登记制度的完善、集成电路布图设计撤销理论及实践、集成电路布图设计专有权的司法保护等主题，从不同视角进行了深刻的分析和解读，提出了很多新颖独到的观点和建议。参会代表与演讲人进行了热烈交流互动。与会代表一致认为，专家们演讲内容丰富，信息量大，给人启迪，发人深思，收获颇丰。

    高卢麟基金会是由高卢麟博士和北京东方亿思知识产权代理有限责任公司共同创办的社会公益性组织。高卢麟博士是北京东方亿思知识产权代理有限责任公司的创始人，也是中国现代知识产权制度的创始人之一，通过高卢麟基金会设立知识产权奖学金、资助知识产权学术研究、举办国际知识产权学术活动，致力于推动中国知识产权事业的发展。