7月6日，中国知识产权研究会（以下简称研究会）以线上会议形式组织召开集成电路布图设计产业需求座谈会。中科院微电子所中科微知识产权服务公司副总经理李超雷、北方华创合规副总裁兼总法律顾问宋巧丽、紫光展锐法务部部长杨洁静、龙芯中科知识产权办主任刘晓飞、芯原股份政府事务部高级总监朱余龙等业界专家参会交流。国家知识产权局条法司相关工作负责同志出席会议。会议由研究会副秘书长马宁主持。

与会人员围绕集成电路布图设计领域发展现状及创新特点，企业布图设计保护需求、存在的困难和问题，《集成电路布图设计保护条例》的修改方向等进行交流研讨。与会专家认为，集成电路布图设计作为知识产权保护的重要一环，企业特别是涉及电源芯片、模拟电路等技术领域的企业对其存在内生的保护需求。随着集成电路复杂程度和集成度不断提高，现有的《集成电路布图设计保护条例》中部分条款已无法适应数字经济时代技术发展的需要和产业保护的需求，亟需修改完善，以更好落实《知识产权强国建设纲要（2021-2035年）》和《“十四五”国家知识产权保护和运用规划》中“完善集成电路布图设计法规”等相关任务要求。

此次座谈会是今年以来研究会围绕集成电路布图设计相关内容组织开展的第二场调研交流，旨在了解一线企业和产业前沿的实际需求，听取创新主体的意见建议，为《集成电路布图设计保护条例》的修改完善积累信息、提供参考。